الرئيسية › دليل الباحثين › L. Chekour
L. Chekour
الانتماء : University Frères Mentouri Constantine 1
- 17منشورات (انتماء جزائري)
- 26مجموع المنشورات
- 103الاستشهادات
- 6مؤشر h
الملف البحثي
لدى L. Chekour 17 منشور(ات) مفهرسة (2004–2018). تُنشر أعماله أساسًا في «Revue Sciences Humaines (Université des Frères Mentouri Constantine 1)»، «Plasma Processes and Polymers» و«Thin Solid Films». أكثر مقالاته استشهادًا هو «Growth mechanism for chromium nitride films deposited by magnetron and triode sputtering methods» (2005)، وقد استُشهد به 29 مرة. 4 من هذه المنشورات تعود إلى آخر ثلاث سنوات من النشاط. شارك في تأليف أعماله 12 باحثًا على الأقل.
هل هذا أنت؟ عرّف بأبحاثك
أنشئ ملفك على DzCademia مجانًا وأضف مقالاتك: ستظهر بسهولة أكبر على Google وفي مساعدي الذكاء الاصطناعي مثل ChatGPT، فيقرؤها ويستشهد بها عدد أكبر من الناس.
إنشاء ملفي المجاني إضافة منشوراتيمجالات البحث
- Metal and Thin Film Mechanics
- Surface Treatment and Coatings
- Copper Interconnects and Reliability
- Surface Treatment and Residual Stress
- Advanced Materials and Semiconductor Technologies
المنشورات (17)
- Textured hexagonal and cubic phases of AlN films deposited on Si (100) by DC magnetron sputtering and high power impulse magnetron sputtering
- Microstructure and mechanical properties of magnetron sputtered Ti-Si-N coatings with different silicon content
- Influence of Annealing Temperature on the Morphology and Crystallography of Cr, CrN and CrAlN Films
- ELABORATION PAR RF MAGNETRON ET CARACTERISATIONS DES REVETEMENTS DURS Mo-Cr-N
- FORMATION OF LAYERS BY PLASMA NITRIDING IMPOSED TO 32CrMoV13 LOW ALLOY STEEL FORMATION DES COUCHES PAR NITRURATION PLASMA IMPOSEE A L’ACIER FAIBLEMENT ALLIE 32CrMoV13
- ÉLABORATION ET CARACTERISATION DE REVETEMENT DURES TI-AL ET TIALN.
- Characterization of Nitride Thin Films Using SEM and EDX
- ANALYSE DES CONTRAINTES RESIDUELLES ET LA RESISTIVITE ELECTRIQUE DES FILMS DE CHROME DEPOSES PAR PVD.
- Study of the Adhesion and the Thermal Stability of CrN and CrAlN Thin Films
- Comparative Studies on Mo–Cr–N and Al–Cr–N Coatings Obtained by PVD Dual Magnetron Sputtering
- STABILITE THERMIQUE DE FILMS MINCES DE NITRURE DE CHROME (Cr-N)
- INFLUENCE DE QUELQUES PARAMETRES DE DEPOT SUR LE NIVEAU DE CONTRAINTES RESIDUELLES DANS LES COUCHES MINCES DE CHROME OBTENUES PAR PVD
- Analyse morphologique de films CrN. Corrélation entre contrainte résiduelle et résistivité de films de chrome
- Determination of the Optimum Conditions for Ion Nitriding of 32CDV13 Low Alloy Steel
- Growth mechanism for chromium nitride films deposited by magnetron and triode sputtering methods
- FORMATION OF LAYERS BY PLASMA NITRIDING IMPOSED TO 32CrMoV13 LOW ALLOY STEEL
- STUDY OF SOME MECHANICAL PROPERTIES OF THIN HARD COATING CHROMIUM CARBIDES
مجلات النشر
- Revue Sciences Humaines (Université des Frères Mentouri Constantine 1) × 6
- Plasma Processes and Polymers × 2
- Thin Solid Films × 1
- Malaysian Journal of Science × 1
- Springer eBooks × 1
- Courrier du Savoir (Universite de Biskra) × 1
المنشورات حسب السنة
- 20181
- 20171
- 20162
- 20142
- 20131
- 20121
- 20111
- 20091
- 20083
- 20071
التعاون العلمي
المؤسسات الشريكة : University of Biskra · University of Constantine 3 · Centre de Développement des Technologies Avancées
المؤلفون المشاركون
- N. Rouag
- Abdelouahad Chala
- Fatima Zohra Mammeri
- Chahinez Saied
- Zakaria Boumerzoug
- Issan Rahil
- Yacine Benlatreche
- Abdelhak Ayad
- M.S. Aïda
- B. Riah
- Hayet Berkane
- Issam Rahil
البيانات البيبليوغرافية مصدرها OpenAlex (قاعدة مفتوحة).
لماذا تختارون Dzcademia؟
ملفات أكاديمية ومقالات ومداخلات علمية: امنحوا أبحاثكم حضوراً عاماً منظماً. تساعد البيانات الوصفية المدمجة محركات البحث ومساعدات الذكاء الاصطناعي على التعرف على أعمالكم وفهم مراجعها.
علّق عبر Google
سجّل الدخول عبر Google للتعليق مباشرة على هذه الصفحة.