الرئيسية › دليل الباحثين › J BENBRAHIM

J BENBRAHIM

الانتماء : National Institute of Applied Science and Technology

• 1منشورات (انتماء تونسي)
• 1مجموع المنشورات
• 0الاستشهادات

OpenAlex

الملف البحثي

لدى J BENBRAHIM 1 منشور(ات) مفهرسة (1998). تُنشر أعماله أساسًا في «Annales de Chimie Science des Matériaux». شارك في تأليف أعماله 3 باحثًا على الأقل، منهم باحثون من مؤسسات في فرنسا.

هل هذا أنت؟ عرّف بأبحاثك

أنشئ ملفك على DzCademia مجانًا وأضف مقالاتك: ستظهر بسهولة أكبر على Google وفي مساعدي الذكاء الاصطناعي مثل ChatGPT، فيقرؤها ويستشهد بها عدد أكبر من الناس.

إنشاء ملفي المجاني إضافة منشوراتي

مجالات البحث

• Semiconductor materials and devices
• Semiconductor materials and interfaces
• Ion-surface interactions and analysis

المنشورات (1)

• RTA processing of ionic boron implanted in silicon through screen oxide films: effects of some technological parameters
  1998 · Annales de Chimie Science des Matériaux

التعاون العلمي

المؤسسات الشريكة : Centre National de la Recherche Scientifique · Institut National des Sciences Appliquées de Lyon

بلدان المؤلفين المشاركين : فرنسا

المؤلفون المشاركون

• J.C. Bureau
• Lanouar Kaabi
• Z. Sassi

البيانات البيبليوغرافية مصدرها OpenAlex (قاعدة مفتوحة).