الرئيسية › دليل الباحثين › Farida Rebib

Farida Rebib

الانتماء : Centre National de la Recherche Scientifique · Institut de Chimie de Clermont-Ferrand

• 2منشورات (انتماء فرنسي)
• 17مجموع المنشورات
• 220الاستشهادات
• 9مؤشر h

OpenAlex

الملف البحثي

لدى Farida Rebib 2 منشور(ات) مفهرسة (2006–2007). تُنشر أعماله أساسًا في «Plasma Processes and Polymers» و«Applied Surface Science». أكثر مقالاته استشهادًا هو «Electrical behaviour of SiOxNy thin films and correlation with structural defects» (2006)، وقد استُشهد به 7 مرة. شارك في تأليف أعماله 5 باحثًا على الأقل.

هل هذا أنت؟ عرّف بأبحاثك

أنشئ ملفك على DzCademia مجانًا وأضف مقالاتك: ستظهر بسهولة أكبر على Google وفي مساعدي الذكاء الاصطناعي مثل ChatGPT، فيقرؤها ويستشهد بها عدد أكبر من الناس.

إنشاء ملفي المجاني إضافة منشوراتي

مجالات البحث

• Semiconductor materials and devices
• Metal and Thin Film Mechanics
• Thin-Film Transistor Technologies
• Advanced Materials and Semiconductor Technologies
• Optical Coatings and Gratings

المنشورات (2)

• Influence of the Structure of a-SiOxNy Thin Films on Their Electrical Properties
  2007 · Plasma Processes and Polymers · استُشهد به 6 مرة
• Electrical behaviour of SiOxNy thin films and correlation with structural defects
  2006 · Applied Surface Science · استُشهد به 7 مرة

مجلات النشر

• Plasma Processes and Polymers × 1
• Applied Surface Science × 1

المنشورات حسب السنة

• 20071
• 20061

التعاون العلمي

المؤسسات الشريكة : Université Blaise Pascal · Laboratoire Procédés, Matériaux et Energie Solaire

المؤلفون المشاركون

• Michel Jacquet
• J. Cellier
• Eric Tomasella
• Marc Dubois
• E. Bêche

البيانات البيبليوغرافية مصدرها OpenAlex (قاعدة مفتوحة).