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Farida Rebib

Affiliation : Centre National de la Recherche Scientifique · Institut de Chimie de Clermont-Ferrand

• 2Publications (affiliation française)
• 17Publications au total
• 220Citations
• 9Indice h

OpenAlex

Profil de recherche

Farida Rebib compte 2 publications référencées (2006–2007). Ses travaux paraissent principalement dans « Plasma Processes and Polymers » et « Applied Surface Science ». Son article le plus cité, « Electrical behaviour of SiOxNy thin films and correlation with structural defects » (2006), a été cité 7 fois. Ses travaux sont cosignés avec au moins 5 chercheurs.

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Domaines de recherche

• Semiconductor materials and devices
• Metal and Thin Film Mechanics
• Thin-Film Transistor Technologies
• Advanced Materials and Semiconductor Technologies
• Optical Coatings and Gratings

Publications (2)

• Influence of the Structure of a-SiOxNy Thin Films on Their Electrical Properties
  2007 · Plasma Processes and Polymers · cité 6 fois
• Electrical behaviour of SiOxNy thin films and correlation with structural defects
  2006 · Applied Surface Science · cité 7 fois

Revues de publication

• Plasma Processes and Polymers × 1
• Applied Surface Science × 1

Publications par année

• 20071
• 20061

Collaborations

Établissements partenaires : Université Blaise Pascal · Laboratoire Procédés, Matériaux et Energie Solaire

Co-auteurs

• Michel Jacquet
• J. Cellier
• Eric Tomasella
• Marc Dubois
• E. Bêche

Données bibliographiques issues d’OpenAlex (base ouverte).