الرئيسية › دليل الباحثين › M. Kihel
M. Kihel
الانتماء : University Frères Mentouri Constantine 1
- 15منشورات (انتماء جزائري)
- 23مجموع المنشورات
- 70الاستشهادات
- 5مؤشر h
الملف البحثي
لدى M. Kihel 15 منشور(ات) مفهرسة (2008–2026). تُنشر أعماله أساسًا في «Physica Scripta»، «Lecture notes in electrical engineering» و«International Conference on Electrical, Computer and Energy Technologies (ICECET)». أكثر مقالاته استشهادًا هو «Dielectric properties of SiOx like films deposited from TMS/O2 mixture in low pressure microwave plasma» (2014)، وقد استُشهد به 17 مرة. 4 من هذه المنشورات تعود إلى آخر ثلاث سنوات من النشاط. شارك في تأليف أعماله 12 باحثًا على الأقل.
هل هذا أنت؟ عرّف بأبحاثك
أنشئ ملفك على DzCademia مجانًا وأضف مقالاتك: ستظهر بسهولة أكبر على Google وفي مساعدي الذكاء الاصطناعي مثل ChatGPT، فيقرؤها ويستشهد بها عدد أكبر من الناس.
إنشاء ملفي المجاني إضافة منشوراتيمجالات البحث
- Plasma Diagnostics and Applications
- Plasma Applications and Diagnostics
- Semiconductor materials and devices
- Diamond and Carbon-based Materials Research
- Copper Interconnects and Reliability
المنشورات (15)
- Impact of O 2 plasma post-treatment on the chemical, morphological and wetting properties of SiO x thin films deposited by PECVD from HMDSO vapors
- Evaluation of plasma synthesized highly hydrophilic TiO2 thin films for antibacterial activity
- Effects of Electrical Discharge Parameters on a Plasma Jet’s Characteristics
- Design and Development of Low Cost Electrospinning System for Biomedical Application
- Surface treatment of thin films deposited by plasma PECVD prepared for an application as biocide material
- Plasma dust deposition in low-pressure parallel plates reactor
- Synthesis of nanopowders in a PECVD reactor from organosilicon precursor
- Electrical properties of thin films deposited from TMS/O2 in Microwave Multipolar Plasma reactor
- Online PID control of tank level system
- Superhydrophobic surface produced on polyimide and silicon by plasma enhanced chemical vapour deposition from hexamethyldisiloxane precursor
- Dielectric properties of SiOx like films deposited from TMS/O2 mixture in low pressure microwave plasma
- Online temperature control system
- Optical Properties of a-C:H Films Deposited by Plasma Microwave Discharge with Controlling Substrate Temperature
- Characterization of a-C:H Thin Films Deposited from C2H4 by PECVD Microwave Discharge
- Investigations on electrical properties of a-C:H thin films deposited in a Microwave Multipolar Plasma reactor excited at Distributed Electron Cyclotron Resonance
مجلات النشر
- Physica Scripta × 2
- Lecture notes in electrical engineering × 1
- International Conference on Electrical, Computer and Energy Technologies (ICECET) × 1
- International Conference on Advanced Electrical Engineering (ICAEE) × 1
- Materials Today Proceedings × 1
- Phosphorus, sulfur, and silicon and the related elements × 1
المنشورات حسب السنة
- 20261
- 20253
- 20221
- 20211
- 20191
- 20181
- 20161
- 20151
- 20142
- 20111
المؤلفون المشاركون
- Salah Sahli
- Youcef Fermi
- A. Bellel
- Houssem Eddine Bousba
- Boubekeur Boukhezzar
- Ameur Ikhlef
- Djamel DAOUDI
- Fella Esma Teniou
- Zehira Ziari
- R. Soudous
- Ilyès Nouicer
- F. Hobar
البيانات البيبليوغرافية مصدرها OpenAlex (قاعدة مفتوحة).
لماذا تختارون Dzcademia؟
ملفات أكاديمية ومقالات ومداخلات علمية: امنحوا أبحاثكم حضوراً عاماً منظماً. تساعد البيانات الوصفية المدمجة محركات البحث ومساعدات الذكاء الاصطناعي على التعرف على أعمالكم وفهم مراجعها.
علّق عبر Google
سجّل الدخول عبر Google للتعليق مباشرة على هذه الصفحة.