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M. Kihel
Affiliation : University Frères Mentouri Constantine 1
- 15Publications (affiliation algérienne)
- 23Publications au total
- 70Citations
- 5Indice h
Profil de recherche
M. Kihel compte 15 publications référencées (2008–2026). Ses travaux paraissent principalement dans « Physica Scripta », « Lecture notes in electrical engineering » et « International Conference on Electrical, Computer and Energy Technologies (ICECET) ». Son article le plus cité, « Dielectric properties of SiOx like films deposited from TMS/O2 mixture in low pressure microwave plasma » (2014), a été cité 17 fois. 4 de ces publications datent des trois dernières années d’activité. Ses travaux sont cosignés avec au moins 12 chercheurs.
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- Plasma Diagnostics and Applications
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- Semiconductor materials and devices
- Diamond and Carbon-based Materials Research
- Copper Interconnects and Reliability
Publications (15)
- Impact of O 2 plasma post-treatment on the chemical, morphological and wetting properties of SiO x thin films deposited by PECVD from HMDSO vapors
- Evaluation of plasma synthesized highly hydrophilic TiO2 thin films for antibacterial activity
- Effects of Electrical Discharge Parameters on a Plasma Jet’s Characteristics
- Design and Development of Low Cost Electrospinning System for Biomedical Application
- Surface treatment of thin films deposited by plasma PECVD prepared for an application as biocide material
- Plasma dust deposition in low-pressure parallel plates reactor
- Synthesis of nanopowders in a PECVD reactor from organosilicon precursor
- Electrical properties of thin films deposited from TMS/O2 in Microwave Multipolar Plasma reactor
- Online PID control of tank level system
- Superhydrophobic surface produced on polyimide and silicon by plasma enhanced chemical vapour deposition from hexamethyldisiloxane precursor
- Dielectric properties of SiOx like films deposited from TMS/O2 mixture in low pressure microwave plasma
- Online temperature control system
- Optical Properties of a-C:H Films Deposited by Plasma Microwave Discharge with Controlling Substrate Temperature
- Characterization of a-C:H Thin Films Deposited from C2H4 by PECVD Microwave Discharge
- Investigations on electrical properties of a-C:H thin films deposited in a Microwave Multipolar Plasma reactor excited at Distributed Electron Cyclotron Resonance
Revues de publication
- Physica Scripta × 2
- Lecture notes in electrical engineering × 1
- International Conference on Electrical, Computer and Energy Technologies (ICECET) × 1
- International Conference on Advanced Electrical Engineering (ICAEE) × 1
- Materials Today Proceedings × 1
- Phosphorus, sulfur, and silicon and the related elements × 1
Publications par année
- 20261
- 20253
- 20221
- 20211
- 20191
- 20181
- 20161
- 20151
- 20142
- 20111
Co-auteurs
- Salah Sahli
- Youcef Fermi
- A. Bellel
- Houssem Eddine Bousba
- Boubekeur Boukhezzar
- Ameur Ikhlef
- Djamel DAOUDI
- Fella Esma Teniou
- Zehira Ziari
- R. Soudous
- Ilyès Nouicer
- F. Hobar
Données bibliographiques issues d’OpenAlex (base ouverte).
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