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Accueil › Annuaire des chercheurs › Thomas David

Thomas David

Affiliation : Centre National de la Recherche Scientifique · Aix-Marseille Université · Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence

  • 16Publications (affiliation française)
  • 50Publications au total
  • 755Citations
  • 15Indice h

Profil de recherche

Thomas David compte 16 publications référencées (2015–2026). Ses travaux paraissent principalement dans « Nanotechnology », « Nanoscale » et « Small ». Son article le plus cité, « Complex dewetting scenarios of ultrathin silicon films for large-scale nanoarchitectures » (2017), a été cité 116 fois. Ses travaux sont cosignés avec au moins 12 chercheurs, notamment dans des établissements de Tunisie, Maroc, Royaume-Uni.

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Domaines de recherche

  • Silicon Nanostructures and Photoluminescence
  • Nanowire Synthesis and Applications
  • Advancements in Semiconductor Devices and Circuit Design
  • Nanofabrication and Lithography Techniques
  • Fluid Dynamics and Thin Films

Publications (16)

Revues de publication

  • Nanotechnology × 3
  • Nanoscale × 2
  • Small × 2
  • Journal of Alloys and Compounds × 1
  • Applied Physics A × 1
  • ACS Applied Nano Materials × 1

Publications par année

  • 20261
  • 20202
  • 20193
  • 20181
  • 20173
  • 20164
  • 20152

Collaborations

Établissements partenaires : Université de Toulon · Centrale Méditerranée · University of Monastir · Institut Fresnel · Institut des NanoSciences de Paris

Pays des co-auteurs : Tunisie · Maroc · Royaume-Uni

Co-auteurs

Données bibliographiques issues d’OpenAlex (base ouverte).

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Manifestations recensees
4964153
Visites cumulees
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