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Karim Henda
Affiliation : Centre de Développement des Technologies Avancées
- 22Publications (affiliation algérienne)
- 28Publications au total
- 294Citations
- 9Indice h
Profil de recherche
Karim Henda compte 22 publications référencées (2003–2015). Ses travaux paraissent principalement dans « Advanced materials research », « Surface and Interface Analysis » et « AIP conference proceedings ». Son article le plus cité, « Study of the deposition of Ti/TiN multilayers by magnetron sputtering » (2010), a été cité 69 fois. Ses travaux sont cosignés avec au moins 12 chercheurs.
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- Metal and Thin Film Mechanics
- Plasma Diagnostics and Applications
- Vacuum and Plasma Arcs
- Surface Treatment and Coatings
- Plasma Applications and Diagnostics
Publications (22)
- New Green Dielectrics Related to Calcium Titanate: Synthesis and Characterizations
- Characterization of thermal flame sprayed coatings prepared from FeCr mechanically milled powder
- Effect of the Plasma Deposition Parameters on the Properties of Ti/TiC Multilayers for Hard Coatings Applications
- The Effect of a Multihollow Cathode on the Self-Bias Voltage of Methane RF Discharge Used for a-C:H Deposition
- Effect of the Plasma Deposition Parameters on the Properties of Ti/TiC Multilayers for Hard Coatings Applications
- Electrical Characterization of Inductively Coupled Plasma Reactor Excited by RF (13.56MHz)
- Development of a Radiofrequency Plasma Diagnostic System with a Langmuir Probe and Study of a Capacitively Coupled Argon Plasma
- Diagnostic of a RF (13.56MHz) Magnetron in Ar/CH4 Discharge
- Study of the deposition of Ti/TiN multilayers by magnetron sputtering
- Influence of bias voltage on the structure and deposition mechanism of diamond‐like carbon films produced by RF (13.56 MHz) CH4 plasma
- Deposition of Titanium Nitride Thin Films onto Silicon by RF Reactive Magnetron Sputtering
- Effect of the plasma deposition parameters on the properties of TixCy for hard coatings applications
- On The structure Of Deposited Diamond-Like Carbon Films Produced By Rf (13.56MHz) CH[sub 4] Plasma
- Effects Of Pressure And Power On The Ionic Saturation Current And Self-Bias Voltage In A RF Discharge 13.56 MHz Of (SF[sub 6], O[sub 2]) At Low Pressure
- Electrical And OES Diagnostics Of A Magnetized RF Discharge In CH[sub 4] Created By A Multihole Cathode Used For a-C:H Deposition
- Electrical and optical characterisation of TiN porous Si/Si structures
- Influence of temperature on electrical characteristics of CHx/porous silicon/Si sensing device
- The influence of CHx coating on the optical properties of porous silicon
- CHx/PS/Si as structure for propane sensing
- Structural Analysis of Diamond‐Like Carbon Films Deposited by RF (13.56 MHz) in a Methane Gas Plasma Atmosphere
- Electrical and optical characterizations of TiC/porous Si/Si structures
- Electrochemical behavior of p-Si/TiC in aqueous HF
Revues de publication
- Advanced materials research × 4
- Surface and Interface Analysis × 3
- AIP conference proceedings × 3
- Arabian Journal for Science and Engineering × 1
- Journal of Materials Processing Technology × 1
- Acta Physica Polonica A × 1
Publications par année
- 20151
- 20122
- 20115
- 20102
- 20092
- 20083
- 20063
- 20052
- 20041
- 20031
Collaborations
Établissements partenaires : University of Sciences and Technology Houari Boumediene · Centre de Recherche Nucléaire d’Alger · University of Blida
Co-auteurs
- Nadia Saoula
- Mohammed Ouchabane
- R. Kesri
- Samira Djerourou
- Laid Henni
- H. Salah
- Mohamed Kechouane
- Brahim Touchrift
- Rabah Tadjine
- Mourad Zekara
- Hadj Lahmar
- Djelloul Louhibi
Données bibliographiques issues d’OpenAlex (base ouverte).
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