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H. Fiad

Affiliation : University Frères Mentouri Constantine 1

• 2Publications (affiliation algérienne)
• 2Publications au total
• 3Citations
• 1Indice h

OpenAlex

Profil de recherche

H. Fiad compte 2 publications référencées (2020). Ses travaux paraissent principalement dans « Materials Science-Poland » et « Silicon ». Son article le plus cité, « A study of nickel and cobalt silicides formed in the Ni/Co/Si(1 0 0) system by thermal annealing » (2020), a été cité 3 fois. Ses travaux sont cosignés avec au moins 7 chercheurs.

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Domaines de recherche

• Semiconductor materials and devices
• Semiconductor materials and interfaces
• Copper Interconnects and Reliability
• Ion-surface interactions and analysis

Publications (2)

• A study of nickel and cobalt silicides formed in the Ni/Co/Si(1 0 0) system by thermal annealing
  2020 · Materials Science-Poland · cité 3 fois
• Formation of Nanometric Yttrium Silicides Layers onto Si (111) Substrate by Ion Implantation
  2020 · Silicon

Revues de publication

• Materials Science-Poland × 1
• Silicon × 1

Collaborations

Établissements partenaires : Ecole Nationale Polytechnique de Constantine · University of Skikda · University Ferhat Abbas of Setif · Centre de Recherche Nucléaire d’Alger · University of Batna 2

Co-auteurs

• Abderaheman Bouabellou
• Charafeddine Sedrati
• A. Hakim Hammoudi
• R. Ayache
• Mokhtar Boudissa
• Adel Taabouche
• A. Kabir

Données bibliographiques issues d’OpenAlex (base ouverte).