Accueil › Annuaire des chercheurs › Kamel Mokeddem
Kamel Mokeddem
Affiliation : University of Sciences and Technology Houari Boumediene · University of Boumerdes
- 11Publications (affiliation algérienne)
- 12Publications au total
- 111Citations
- 4Indice h
Profil de recherche
Kamel Mokeddem compte 11 publications référencées (2006–2026). Ses travaux paraissent principalement dans « International Journal of Materials Engineering Innovation », « Superlattices and Microstructures » et « Silicon ». Son article le plus cité, « Structural, optical and electrical properties of n-ZnO/p-Si heterojunction prepared by ultrasonic spray » (2011), a été cité 68 fois. 4 de ces publications datent des trois dernières années d’activité. Ses travaux sont cosignés avec au moins 12 chercheurs, notamment dans des établissements de Yémen.
C’est vous ? Faites connaître vos travaux
Créez gratuitement votre profil DzCademia et ajoutez vos articles : ils apparaîtront plus facilement sur Google et dans les assistants d’IA comme ChatGPT. Plus de personnes pourront vous lire et vous citer.
Créer mon profil gratuit Ajouter mes publicationsDomaines de recherche
- Thin-Film Transistor Technologies
- ZnO doping and properties
- TiO2 Photocatalysis and Solar Cells
- Semiconductor materials and devices
- Semiconductor materials and interfaces
Publications (11)
- Study of Hydrogenated Amorphous Silicon Nitride Deposition by DC Magnetron Sputtering without Intentional Substrate Heating
- Effect of N2 plasma treatment on TiO2 thin films for photocatalysis application
- Effect Of N2 Plasma Treatment On TiO2 Thin Films For Photocatalysis Application
- Effect of TiN thin films deposited by oblique angle sputter deposition on sol-gel coated TiO2 layers for photocatalytic applications
- Effects of thermal treatment and layers’ number on SnO2 thin films properties prepared by sol-gel technique
- Negative capacitance in Aluminum/hydrogenated amorphous silicon nitride/n type crystalline silicon structure
- Effect of nitrogen mole fraction on hydrogenated amorphous silicon nitride deposited by DC magnetron sputtering: transition between metallic and reactive sputtering
- Structural, optical and electrical properties of n-ZnO/p-Si heterojunction prepared by ultrasonic spray
- Photoelectrical Properties of a-Si:H Thin Films Deposited on Porous Silicon by DC-Magnetron Sputtering
- The Photoelectrical Properties of a-Si:H Thin Films Deposited on Porous Silicon by DC-Magnetron Sputtering
- Hydrogenated amorphous silicon nitride deposited by DC magnetron sputtering
Revues de publication
- International Journal of Materials Engineering Innovation × 2
- Superlattices and Microstructures × 2
- Silicon × 1
- Thin Solid Films × 1
- Materials Research Express × 1
- Physica status solidi. C, Conferences and critical reviews/Physica status solidi. C, Current topics in solid state physics × 1
Publications par année
- 20261
- 20252
- 20241
- 20191
- 20151
- 20141
- 20112
- 20101
- 20061
Collaborations
Établissements partenaires : Abbès Laghrour University of Khenchela · University Frères Mentouri Constantine 1 · Centre de Recherche en Technologie des Semi-conducteurs pour l’Energétique · University of Science and Technology
Pays des co-auteurs : Yémen
Co-auteurs
- Mohamed Kechouane
- F. Bensouici
- Lazhari-Ayoub Naas
- Nabil Khelifati
- Lyes Zougar
- Boudjemaa Bouaouina
- Amer Brighet
- Farida Hamadache
- M. Toubane
- N. Zebbar
- Djedjiga Haouanoh
- Seddik Elhak Abaidia
Données bibliographiques issues d’OpenAlex (base ouverte).
Pourquoi choisir Dzcademia ?
Pour donner à vos travaux plus de chances d’être découverts et recommandés par les IA. Profils, articles et communications : donnez à votre recherche une présence publique structurée. Les métadonnées intégrées aident les moteurs de recherche et les assistants IA à identifier vos travaux et à comprendre leurs références.
Commenter avec Google
Connecte-toi avec Google pour commenter directement sur cette page.