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T. Dufar

Affiliation : Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés

  • 2Publications (affiliation française)
  • 3Publications au total
  • 22Citations
  • 1Indice h

Profil de recherche

T. Dufar compte 2 publications référencées (2019). Ses travaux paraissent principalement dans « CrystEngComm » et « HAL ». Son article le plus cité, « Czochralski crystal growth and characterization of large langatate (La 3 Ga 5.5 Ta 0.5 O 14 , LGT) crystals for SAW applications » (2019), a été cité 22 fois. Ses travaux sont cosignés avec au moins 12 chercheurs, notamment dans des établissements de Taïwan.

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Domaines de recherche

  • Ferroelectric and Piezoelectric Materials
  • Acoustic Wave Resonator Technologies
  • Microwave Dielectric Ceramics Synthesis
  • Chalcogenide Semiconductor Thin Films
  • Solidification and crystal growth phenomena

Publications (2)

Revues de publication

  • CrystEngComm × 1
  • HAL × 1

Collaborations

Établissements partenaires : Centre National de la Recherche Scientifique · Franche-Comté Électronique Mécanique Thermique et Optique - Sciences et Technologies · Université de Lyon · Institut Lumière Matière · Lumtec (Taiwan)

Pays des co-auteurs : Taïwan

Co-auteurs

Données bibliographiques issues d’OpenAlex (base ouverte).

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