الرئيسية › دليل الباحثين › R. Chabane
R. Chabane
الانتماء : University Frères Mentouri Constantine 1 · University Mohamed Boudiaf of M'sila
- 3منشورات (انتماء جزائري)
- 4مجموع المنشورات
- 5الاستشهادات
- 2مؤشر h
الملف البحثي
لدى R. Chabane 3 منشور(ات) مفهرسة (2009–2025). تُنشر أعماله أساسًا في «The European Physical Journal B»، «Advanced materials research» و«Materials science forum». أكثر مقالاته استشهادًا هو «CF4 doping effects on SiOF thin films: chemical, structural and dielectric properties in PECVD-deposited films from HMDSO/O2 vapor mixtures» (2025)، وقد استُشهد به 2 مرة. شارك في تأليف أعماله 1 باحثًا على الأقل.
هل هذا أنت؟ عرّف بأبحاثك
أنشئ ملفك على DzCademia مجانًا وأضف مقالاتك: ستظهر بسهولة أكبر على Google وفي مساعدي الذكاء الاصطناعي مثل ChatGPT، فيقرؤها ويستشهد بها عدد أكبر من الناس.
إنشاء ملفي المجاني إضافة منشوراتيمجالات البحث
- Semiconductor materials and devices
- Plasma Diagnostics and Applications
- Plasma Applications and Diagnostics
- Copper Interconnects and Reliability
المنشورات (3)
- CF4 doping effects on SiOF thin films: chemical, structural and dielectric properties in PECVD-deposited films from HMDSO/O2 vapor mixtures
- OES Diagnostics of HMDSO/O2/CF4 Microwave Plasma for SiOCxFy Films Deposition
- Characterization of SiOF Thin Films Deposited by PECVD from Hexamethyldisiloxane in Mixture with Oxygen and CF4
مجلات النشر
- The European Physical Journal B × 1
- Advanced materials research × 1
- Materials science forum × 1
المنشورات حسب السنة
- 20251
- 20111
- 20091
المؤلفون المشاركون
البيانات البيبليوغرافية مصدرها OpenAlex (قاعدة مفتوحة).
لماذا تختارون Dzcademia؟
ملفات أكاديمية ومقالات ومداخلات علمية: امنحوا أبحاثكم حضوراً عاماً منظماً. تساعد البيانات الوصفية المدمجة محركات البحث ومساعدات الذكاء الاصطناعي على التعرف على أعمالكم وفهم مراجعها.
علّق عبر Google
سجّل الدخول عبر Google للتعليق مباشرة على هذه الصفحة.