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R. Chabane

Affiliation : University Frères Mentouri Constantine 1 · University Mohamed Boudiaf of M'sila

• 3Publications (affiliation algérienne)
• 4Publications au total
• 5Citations
• 2Indice h

OpenAlex

Profil de recherche

R. Chabane compte 3 publications référencées (2009–2025). Ses travaux paraissent principalement dans « The European Physical Journal B », « Advanced materials research » et « Materials science forum ». Son article le plus cité, « CF4 doping effects on SiOF thin films: chemical, structural and dielectric properties in PECVD-deposited films from HMDSO/O2 vapor mixtures » (2025), a été cité 2 fois. Ses travaux sont cosignés avec au moins 1 chercheur.

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Domaines de recherche

• Semiconductor materials and devices
• Plasma Diagnostics and Applications
• Plasma Applications and Diagnostics
• Copper Interconnects and Reliability

Publications (3)

• CF4 doping effects on SiOF thin films: chemical, structural and dielectric properties in PECVD-deposited films from HMDSO/O2 vapor mixtures
  2025 · The European Physical Journal B · cité 2 fois
• OES Diagnostics of HMDSO/O2/CF4 Microwave Plasma for SiOCxFy Films Deposition
  2011 · Advanced materials research · cité 2 fois
• Characterization of SiOF Thin Films Deposited by PECVD from Hexamethyldisiloxane in Mixture with Oxygen and CF4
  2009 · Materials science forum · cité 1 fois

Revues de publication

• The European Physical Journal B × 1
• Advanced materials research × 1
• Materials science forum × 1

Publications par année

• 20251
• 20111
• 20091

Co-auteurs

• Salah Sahli

Données bibliographiques issues d’OpenAlex (base ouverte).