الرئيسية › دليل الباحثين › Jonathan Boucher

Jonathan Boucher

الانتماء : Centre National de la Recherche Scientifique · Laboratoire d'Analyse et d'Architecture des Systèmes · Université de Toulouse

1منشورات (انتماء فرنسي)
4مجموع المنشورات
46الاستشهادات
3مؤشر h

OpenAlex

الملف البحثي

لدى Jonathan Boucher 1 منشور(ات) مفهرسة (2011). تُنشر أعماله أساسًا في «Japanese Journal of Applied Physics». أكثر مقالاته استشهادًا هو «Study of Nitrogen Effect on the Boron Diffusion during Heat Treatment in Polycrystalline Silicon/Nitrogen-Doped Silicon Thin Films» (2011)، وقد استُشهد به 7 مرة. شارك في تأليف أعماله 3 باحثًا على الأقل.

هل هذا أنت؟ عرّف بأبحاثك

أنشئ ملفك على DzCademia مجانًا وأضف مقالاتك: ستظهر بسهولة أكبر على Google وفي مساعدي الذكاء الاصطناعي مثل ChatGPT، فيقرؤها ويستشهد بها عدد أكبر من الناس.

إنشاء ملفي المجاني إضافة منشوراتي

مجالات البحث

Semiconductor materials and devices
Semiconductor materials and interfaces
Silicon and Solar Cell Technologies
Silicon Carbide Semiconductor Technologies
Advancements in Semiconductor Devices and Circuit Design

المنشورات (1)

Study of Nitrogen Effect on the Boron Diffusion during Heat Treatment in Polycrystalline Silicon/Nitrogen-Doped Silicon Thin Films
2011 · Japanese Journal of Applied Physics · استُشهد به 7 مرة

التعاون العلمي

المؤسسات الشريكة : Université Toulouse III - Paul Sabatier · Institut National des Sciences Appliquées de Toulouse · Institut National des Sciences Appliquées de Lyon

المؤلفون المشاركون

البيانات البيبليوغرافية مصدرها OpenAlex (قاعدة مفتوحة).