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Jonathan Boucher

Affiliation : Centre National de la Recherche Scientifique · Laboratoire d'Analyse et d'Architecture des Systèmes · Université de Toulouse

1Publications (affiliation française)
4Publications au total
46Citations
3Indice h

OpenAlex

Profil de recherche

Jonathan Boucher compte 1 publication référencée (2011). Ses travaux paraissent dans « Japanese Journal of Applied Physics ». Son article le plus cité, « Study of Nitrogen Effect on the Boron Diffusion during Heat Treatment in Polycrystalline Silicon/Nitrogen-Doped Silicon Thin Films » (2011), a été cité 7 fois. Ses travaux sont cosignés avec au moins 3 chercheurs.

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Domaines de recherche

Semiconductor materials and devices
Semiconductor materials and interfaces
Silicon and Solar Cell Technologies
Silicon Carbide Semiconductor Technologies
Advancements in Semiconductor Devices and Circuit Design

Publications (1)

Study of Nitrogen Effect on the Boron Diffusion during Heat Treatment in Polycrystalline Silicon/Nitrogen-Doped Silicon Thin Films
2011 · Japanese Journal of Applied Physics · cité 7 fois

Collaborations

Établissements partenaires : Université Toulouse III - Paul Sabatier · Institut National des Sciences Appliquées de Toulouse · Institut National des Sciences Appliquées de Lyon

Co-auteurs

Données bibliographiques issues d’OpenAlex (base ouverte).