الرئيسية › دليل الباحثين › E. Scheid
E. Scheid
الانتماء : Centre National de la Recherche Scientifique · Laboratoire d'Analyse et d'Architecture des Systèmes · Université de Toulouse
- 7منشورات (انتماء فرنسي)
- 189مجموع المنشورات
- 1800الاستشهادات
- 23مؤشر h
الملف البحثي
لدى E. Scheid 7 منشور(ات) مفهرسة (1997–2011). تُنشر أعماله أساسًا في «International Conference on Electrical and Electronics Engineering»، «Materials Science in Semiconductor Processing» و«Spectroscopy Letters». أكثر مقالاته استشهادًا هو «Boron Diffusion and Activation during Heat Treatment in Heavily Doped Polysilicon Thin Films for P+ Metal-Oxide-Semiconductor Transistors Ga» (2001)، وقد استُشهد به 24 مرة. 3 من هذه المنشورات تعود إلى آخر ثلاث سنوات من النشاط. شارك في تأليف أعماله 5 باحثًا على الأقل، منهم باحثون من مؤسسات في اليابان.
هل هذا أنت؟ عرّف بأبحاثك
أنشئ ملفك على DzCademia مجانًا وأضف مقالاتك: ستظهر بسهولة أكبر على Google وفي مساعدي الذكاء الاصطناعي مثل ChatGPT، فيقرؤها ويستشهد بها عدد أكبر من الناس.
إنشاء ملفي المجاني إضافة منشوراتيمجالات البحث
- Semiconductor materials and devices
- Semiconductor materials and interfaces
- Silicon and Solar Cell Technologies
- Copper Interconnects and Reliability
- Advanced Materials and Semiconductor Technologies
المنشورات (7)
- Influence of the annealing condition on the BN bonds intensity detected by FTIR characterization
- Nitrogen doped silicon films heavily boron implanted for MOS structures: Simulation and characterization
- Physicochemical Characterization of Annealed PolySi/NIDOS/SiO2 Structures
- Boron diffusion and activation in polysilicon multilayer films for P+ MOS structure: Characterization and modeling
- A Monte Carlo simulation study of boron profiles as-implanted into LPCVD–NiDoS polycrystalline thin films
- Boron Diffusion and Activation during Heat Treatment in Heavily Doped Polysilicon Thin Films for P+ Metal-Oxide-Semiconductor Transistors Gates
- Electrical characteristics of thin silica layers nitrided by LPCVD nitrogen doped silicon
مجلات النشر
- International Conference on Electrical and Electronics Engineering × 1
- Materials Science in Semiconductor Processing × 1
- Spectroscopy Letters × 1
- Microelectronics Journal × 1
- Solid State Communications × 1
- Japanese Journal of Applied Physics × 1
المنشورات حسب السنة
- 20111
- 20101
- 20091
- 20081
- 20031
- 20011
- 19971
التعاون العلمي
المؤسسات الشريكة : Laboratory for Integrated Micro-Mechatronic Systems · The University of Tokyo · Université Toulouse III - Paul Sabatier
بلدان المؤلفين المشاركين : اليابان
المؤلفون المشاركون
البيانات البيبليوغرافية مصدرها OpenAlex (قاعدة مفتوحة).
لماذا تختارون Dzcademia؟
ملفات أكاديمية ومقالات ومداخلات علمية: امنحوا أبحاثكم حضوراً عاماً منظماً. تساعد البيانات الوصفية المدمجة محركات البحث ومساعدات الذكاء الاصطناعي على التعرف على أعمالكم وفهم مراجعها.
علّق عبر Google
سجّل الدخول عبر Google للتعليق مباشرة على هذه الصفحة.