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A. Mosser
Affiliation : Institut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg
- 17Publications (affiliation française)
- 77Publications au total
- 1085Citations
- 20Indice h
Profil de recherche
A. Mosser compte 17 publications référencées (1999–2009). Ses travaux paraissent principalement dans « Applied Surface Science », « Thin Solid Films » et « International Journal of Inorganic Materials ». Son article le plus cité, « Effect of oxygen partial pressure on the structural and optical properties of dc sputtered ITO thin films » (2009), a été cité 83 fois. Ses travaux sont cosignés avec au moins 11 chercheurs.
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- Electron and X-Ray Spectroscopy Techniques
- Metal and Thin Film Mechanics
- Semiconductor materials and interfaces
- Copper Interconnects and Reliability
- Advanced Electron Microscopy Techniques and Applications
Publications (17)
- Effect of oxygen partial pressure on the structural and optical properties of dc sputtered ITO thin films
- Surface morphology and reaction at Cu/Si interface—Effect of native silicon suboxide
- Optical and electrical properties of sputtered ZrN compounds
- Non-stoichiometric niobium nitrides: structure and properties
- On the existence of superstructure in TiNx thin films
- Optical properties of non-stoichiometric sputtered zirconium nitride films
- Investigations on non-stoichiometric zirconium nitrides
- Nitrogen plasma pressure influence on the composition of TiN x O y sputtered films
- Theoretical and experimental investigations on elastic properties of substoichiometric titanium nitrides: influence of lattice vacancies
- Silicidation in chromium–amorphous silicon multilayer films
- Effect of implanted phosphorus on silicide formation in the Cr/Si(111) system
- Antimony dopant redistribution during copper silicide formation
- Electronic changes induced by vacancies on spectral and elastic properties of titanium carbides and nitrides
- Behaviour of copper atoms in annealed Cu/SiOx/Si systems
- Etching effect on the texture and the stress of copper layers evaporated on Si(100)
- Cross-sectional TEM investigations of the influence of P+ ions implanted in the Si substrate on the atomic interdiffusion in the Cr–Si system
- Electrical properties of Cr/Si(p) structures
Revues de publication
- Applied Surface Science × 4
- Thin Solid Films × 4
- International Journal of Inorganic Materials × 2
- Journal of Alloys and Compounds × 1
- Catalysis Today × 1
- Surface and Interface Analysis × 1
Publications par année
- 20091
- 20061
- 20041
- 20033
- 20022
- 20014
- 20004
- 19991
Collaborations
Établissements partenaires : Centre National de la Recherche Scientifique · Université de Bourgogne
Co-auteurs
- J.C. Parlebas
- G. Schmerber
- Jaques Faerber
- B. Domenichini
- J.P Sens
- Olivier Heintz
- G. Ehret
- D. Raiser
- S. Bourgeois
- L. Imhoff
- J. Werckman
Données bibliographiques issues d’OpenAlex (base ouverte).
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